不同pH值环境下义齿支架金属耐腐蚀性比较
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摘要: 目的探讨2种H值环境下钻铬合金、含铁镍铬合金、，纯钛3种活动义齿常用支架金属的电化学腐蚀性能，为临床选择支架材料提供参考。方法以pH值6.75和5.5的人工唾液模拟口腔环境，使用电化学方法、X射线衍射仪获得3种金属腐蚀前后的电化学参数、物相数据，比较三者的耐腐蚀性和表面稳定性。结果2种pH值环境下，含钛镍格合金和钴铬合金记录到典型的Ta?l曲线，而纯钛未能获得。含钛镍铬合金的腐蚀电位值明显负于钻铬合金，腐蚀电流更大，差异有统计学意义(P<0.05)。三者的衍射图腐蚀前后皆一致，无物质结构改变。结论含钛锦铬合金的电化学腐蚀倾向最大，钴铬合金较小，纯钛最稳定。
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